Shaanxi BLOOM Tech Co., Ltd. je jedan od najiskusnijih proizvođača i dobavljača heksametildisilazana (hmds) cas 999-97-3 u Kini. Dobrodošli u veleprodajni rasuti visokokvalitetni heksametildisilazan (hmds) cas 999-97-3 za prodaju ovdje iz naše tvornice. Dostupne su dobre usluge i razumne cijene.
heksametildisilazan (HMDS), bezbojna prozirna tečnost. Lako se hidrolizira, oslobađa NH3 i stvara heksametildisilan. U prisustvu katalizatora, on reaguje sa alkoholom ili fenolom da bi se dobio trimetilalkoksisilan ili trimetilariloksisilan. Reaguje s bezvodnim klorovodikom kako bi se oslobodio NH3 ili NH4Cl da bi se dobio trimetilklorosilan. Može se pripremiti reakcijom trimetilhlorosilana sa NH3. Može se koristiti kao hidrofobno sredstvo za obradu površine isparenog silicijum dioksida i reagens za obezbjeđivanje atoma N u reakciji organske sinteze, kao pomoćno sredstvo za vlakna od silicijum karbida, za poboljšanje otpornosti na toplotu i čvrstoću vlakana od silicijum karbida i kao sredstvo protiv taloženja za premaze. Takođe se koristi za pripremu organosilicijumskih jedinjenja.
|
|
|
|
Hemijska formula |
C6H19NSi2 |
|
Tačna masa |
161.11 |
|
Molecular Weight |
161.40 |
|
m/z |
161.11 (100.0%), 162.11 (6.5%), 162.11 (5.1%), 162.11 (5.1%), 163.10 (3.3%), 163.10 (3.3%) |
|
Elementalna analiza |
C, 44,65; H, 11,87; N, 8,68; Si, 34.80 |
heksametildisilazan (HMDS)(CAS broj: 999-97-3), kao multifunkcionalno organsko jedinjenje silicijuma, pokazalo je nezamjenjivu vrijednost u raznim oblastima kao što su medicina, poluvodič, organska sinteza i modifikacija materijala zbog svoje jedinstvene strukture silicijum-azotne veze (Si-N) i visoke reaktivnosti.
Primjena HMDS-a u farmaceutskoj oblasti čini 64% i on je ključni reagens za sintezu antibiotika, anti-lijekova protiv tumora, antivirusnih lijekova i ciljanih nosača lijekova. Njegova osnovna vrijednost ogleda se u dvostrukim funkcijama zaštite grupe i aktivacije reakcije:
Sinteza antibiotika
- laktamski antibiotici (kao što su penicilin i cefalosporin): HMDS štiti hidroksilne ili amino grupe kroz silanizaciju, sprječavajući razgradnju ključnih međuproizvoda pod kiselim ili visokim-temperaturnim uslovima. Na primjer, u sintezi cefalosporinskih antibiotika, HMDS štiti hidroksilnu grupu 7-aminocefalosporanske kiseline (7-ACA), povećavajući prinos reakcije sa 65% na 89% uz smanjenje stvaranja nusproizvoda.
Aminoglikozidni antibiotici (kao što su amikacin i kanamicin): HMDS štiti amino grupu kako bi osigurao stabilnost reakcionog puta. U sintezi amikacina, uvođenje HMDS-a povećalo je čistoću međuproizvoda sa 92% na 98%, što je značajno poboljšalo efikasnost velike-proizvodnje.
antineoplastičnih lijekova
Fluorouracil (5-FU): HMDS štiti hidroksilne grupe međuprodukata lijeka kroz silanizaciju, smanjujući oksidativne nuspojave. Eksperimentalni podaci pokazuju da su nakon upotrebe HMDS, koraci sinteze fluorouracila pojednostavljeni sa 7 koraka na 4 koraka, prinos je povećan sa 58% na 76%, a čistoća je dostigla 99,5%.
Ciljani nosač lijeka: HMDS visoke čistoće se koristi za modificiranje površine liposoma ili polimernih nanočestica, poboljšavajući biokompatibilnost i ciljanje. Na primjer, akumulacija modificiranih nosača lijekova protiv raka u tumorskim tkivima se povećava za tri puta, a sistemska toksičnost je smanjena za 40%.
antivirusni lijekovi
Azvudin: HMDS smanjuje rizik od stvaranja nečistoća u sintezi novih međuproizvoda antivirusnih lijekova kroz više-zaštitne reakcije. Pretkliničke studije su pokazale da uvođenje HMDS-a smanjuje sadržaj nečistoća u međuproizvodima sa 2,1% na 0,3%, podržavajući veliku{4}}proizvodnju sa godišnjim kapacitetom od preko 50 tona.
Industrija poluprovodnika: "stručnjak za spajanje" fotolitografske tehnologije
U polju poluprovodnika,heksametildisilazan (HMDS), kao vezivno sredstvo za nagrizanje fotografija, poboljšava tačnost proizvodnje čipova kroz tehnologiju modifikacije površine, što čini 20% aplikacija. Njegov osnovni mehanizam djelovanja je:
Obrada hidrofobnosti površine
HMDS se raspršuje na površinu silicijumskih pločica u tečnoj ili gasovitoj fazi, a silicijum-azotna veza se kondenzuje sa silicijum-hidroksilnom grupom (- Si OH) da bi se formirao hidrofobni sloj silicijum nitrida (kontaktni ugao se povećava sa 20 stepeni na 120 stepeni, što se povećava za tri puta od silikonovog fotohejfera) smanjuje dubinu prodiranja rastvora za jetkanje za 80% i značajno povećava otpornost na koroziju.
Aplikacije za elektronske proizvode
Elektronski HMDS (čistoća veća ili jednaka 99,999%) se široko koristi u poljima kao što su ravni ekrani i proizvodnja čipova. Na primjer, u obradi pločice od 12 inča, HMDS obrada smanjuje stopu skidanja fotorezista sa 15% na 3%, kontrolira ujednačenost širine linije unutar ± 2nm i podržava procese od 5nm i niže.
Organosilicij materijali: ključni modifikatori za poboljšanje performansi
HMDS čini 3% primjene u području organosilicijuma i osnovni je aditiv za optimizaciju svojstava materijala kao što su silikonska guma, silikonsko ulje i silikonska smola
Pojačanje od silikonske gume
HMDS, kao sredstvo za zaptivanje, reaguje sa hidroksilnim grupama na kraju molekularnog lanca silikonske gume kroz silikonske azotne veze da formira stabilnu unakrsnu-uvezanu strukturu. Eksperimenti su pokazali da dodavanje 2% HMDS silikonskoj gumi povećava njenu čvrstoću na kidanje za 40%, proširuje temperaturnu otpornost od -50 stepeni do 200 stepeni do -80 stepeni do 250 stepeni i smanjuje njenu kompresiju za 50%.
Hidrofobni tretman silikonskog ulja
HMDS reaguje sa silanolnim grupama na površini bele čađe u gasnoj-fazi formirajući hidrofobni silazanski sloj, povećavajući kontaktni ugao silikonskog ulja sa 30 stepeni na 150 stepeni i smanjujući vreme otapanja za 60%. Široko se koristi u premazima, kozmetici i drugim poljima.
Visokotemperaturni aditiv maziva
HMDS se kombinuje sa molekulima ulja za podmazivanje kako bi formirao zaštitni film, smanjujući isparljivost za 30%, produžavajući period indukcije oksidacije za 2 puta i povećavajući termičku stabilnost na 300 stepeni. Pogodan je za okruženja sa visokim{4}temperaturama kao što su motori aviona.
Površinska obrada materijala: "glavni ključ" za funkcionalnu modifikaciju
HMDS postiže optimizaciju performansi kondenzacijom hidroksilnih grupa na površini neorganskih materijala putem silikonskih azotnih veza, sa udjelom primjene od 8%
Prerada materijala u prahu
Bijela čađa: Nakon HMDS tretmana, specifična površina je smanjena sa 200m²/g na 180m²/g, fenomen aglomeracije je smanjen za 70%, a disperzibilnost u gumi je značajno poboljšana.
Titanijum u prahu: Površinska hidrofobna obrada smanjuje stopu taloženja titanovog praha u organskim rastvaračima za 90%, što ga čini pogodnim za 3D štampanje pripreme metalnog praha.
Modifikacija tkanine od vlakana
HMDS tretman vlakana od silicijum karbida formira zaštitni sloj silicijum nitrida, povećavajući otpornost vlakana na toplotu od 1200 stepeni do 1500 stepeni i stopu zadržavanja čvrstoće od 65% do 85%. Široko se koristi u vazduhoplovnim kompozitnim materijalima.
heksametildisilazan (HMDS)čini 5% u području organske sinteze, a njegove osnovne primjene uključuju:
Sinteza hlorosilanskog monomera
HMDS prolazi kroz reakciju izmjene hlora sa hlorosilanima (kao što je oktametilciklotetrasiloksan) da bi se dobio polisilazan, sa prinosom za 20% većim i potrošnjom energije smanjenom za 30% u poređenju sa metodom direktnog amonijaka. To je važna metoda za pripremu keramičkih prekursora.
Repni reduktor plinske hromatografije
Kao fiksirana tečnost, HMDS smanjuje površinsku adsorpcionu aktivnost nosača, povećava vršnu simetriju za 40% i smanjuje granicu detekcije na 0,1 ppm. Široko se koristi u monitoringu okoliša, analizi lijekova i drugim poljima.
Priprema uzoraka elektronskog mikroskopa
HMDS, kao sredstvo za sušenje kritične tačke, zamjenjuje tradicionalnu dehidrataciju etanola, smanjuje skupljanje uzorka za 80%, čuva ultrastrukturu ćelije i široko se koristi u biomedicinskim istraživanjima.
Postoji pet glavnih sintetičkih procesa za ovaj proizvod:
1. Trimetilsilan reaguje sa amonijakom pod katalizom Pt ili Pd. Temperatura reakcije je visoka, a oprema stroga. Prinos je do 95,8%.
2. Trimetilhlorosilan se dobija iz trimetilhlorosilana reakcijom sa amonijakom u inertnom rastvaraču i rektifikovanjem.
3. Sa heksametildisiloksanom kao sirovinom, reaguje sa koncentrovanom sumpornom kiselinom kako bi se stvorio silicijum sulfat, a silicijum sulfat reaguje sa hlorovodonikom da bi stvorio trimetilhlorosilan, a zatim propušta amonijak za pripremu HMDS.
4. Heksametildisiloksan reaguje sa fosfornim pentoksidom ili fosfornom kiselinom da bi se dobio silicijum fosfat, a zatim ulazi u amonijak da bi se pripremio HMDS.
5. HMDS se priprema reakcijom heksametildisiloksana i koncentrovane sumporne kiseline za proizvodnju silicijum sulfata direktno kroz gas amonijaka.
Trenutno se druga metoda uglavnom koristi za industrijsku proizvodnju HMDS-a u Kini. Ova metoda uzima kao sirovinu trimetilhlorosilan, reaguje sa amonijakom u inertnom rastvaraču, a zatim se priprema destilacijom.
Metoda 1:
Dodajte 630 ml trimetilhlorosilana, 250 ml heksametildisiloksana, 500 ml benzena i 500 ml ksilena u reaktor sa mešalicom, termometrom i manometrom, i ravnomerno promešajte. Gas amonijak se uvodi za reakciju amonijaka, a promjena stanja materijala u tikvici se pažljivo prati tokom procesa uvođenja plina amonijaka. Strogo kontrolirajte brzinu protoka plina amonijaka, a brzina reakcije ne smije biti prebrza da spriječi čestice soli da omotaju trimetilklorosilan. Kontrolna temperatura reakcije Manja ili jednaka 80 stepeni i reakcioni pritisak manji ili jednak 0,2Mpa. Nakon reakcije amonijacije, ohladite materijal na 35 stepeni i dodajte 800 ml vode za prvo pranje vodom. Nakon pranja, stajati 5 minuta i ukloniti vodeni rastvor NH4Cl u donjem sloju u fazama. Dodati 400 ml 30% rastvora kalijum hidroksida da se ispere organska faza. Nakon pranja ostavite da odstoji 5 minuta, a zatim odvojite donju vodenu fazu. Organska faza se po drugi put ispere sa 800 ml vode. Nakon odvajanja faza, gornji materijal je sirovi HMDS. Tokom procesa pranja, voda za pranje za prvo pranje će biti voda za pranje za drugo pranje nakon alkalnog pranja. Sirovi proizvod se šalje u destilacioni toranj da se odvoji reakcioni rastvarač i produkt, i na krajuheksametildisilazansa sadržajem većim ili jednakim 99% dobija se sa prinosom od 89,99%.
Metoda 2:
Metoda za pripremu heksametildisiloksana iz heksametildisiloksana uključuje sljedeće korake:
1) Stavite 1000 kg heksametildisiloksana u reakcionu posudu kapaciteta 1500L, unesite suvi gasni hlorovodonik u reakcionu posudu za reakciju i stvorite trimetilhlorosilan i vodu; Pritisak u reakcionoj posudi je kontrolisan na oko 0,2 MPa, temperatura je 30 stepeni, a brzina mešanja u reakcionoj posudi je 65 r/min. Tokom reakcije, stvorena voda se ispušta sa dna reakcione posude.
Kada masa trimetilklorosilana u pomiješanoj otopini heksametildisiloksana i trimetilhlorosilana u gornjoj reakcionoj posudi iznosi 30% mase pomiješane otopine, prestaje propuštanje plinovitog klorovodika i reakcija se završava.
2) Prebaciti mešavinu heksametildisiloksana i trimetilhlorosilana dobijenu gore u drugi reaktor kapaciteta 3000L i promešati. Napunite reaktor suhim amonijakom da se dobije heksametildisiloksan i amonijum hlorid. Pritisak u reaktoru je oko 0,25MPa, temperatura je 35 stepeni, a vreme reakcije je 5h.
3) Amonijum hlorid u proizvodu reakcije u koraku 2) se odvaja kroz zgušnjivač za odvajanje amonijum hlorida, a zatim se ostatak rektifikuje da bi se uklonio heksametildisiloksan da bi se konačno dobioheksametildisilazan (HMDS).
Popularni tagovi: heksametildisilazan(hmds) cas 999-97-3, dobavljači, proizvođači, fabrika, veleprodaja, kupovina, cijena, rasuti, za prodaju